发明名称 |
导电膜形成用组成物及使用其的导电膜的制造方法;COMPOSITION FOR FORMING ELECTROCONDUCTIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING ELECTROCONDUCTIVE FILM BY USING THE SAME |
摘要 |
本发明提供一种导电膜形成用组成物及使用其的导电膜的制造方法,上述导电膜形成用组成物包含:平均粒径为10 nm~500 nm的氧化铜粒子(A)、平均粒径为100 nm~1000 nm的铜粒子(B)、分子内具有2个以上羟基的多元醇化合物(C)、及选自由水及水溶性溶剂所组成的组群的至少1种溶剂(D);氧化铜粒子(A)的总质量WA与铜粒子(B)的总质量WB之比为WA:WB=1:3~3:1,且氧化铜粒子(A)及铜粒子(B)的合计质量WAB与多元醇化合物(C)的总质量WC之比为WAB:WC=20:1~2:1;并且可形成具有高的导电性、基材密接性优异的导电膜。 |
申请公布号 |
TW201443917 |
申请公布日期 |
2014.11.16 |
申请号 |
TW103111145 |
申请日期 |
2014.03.26 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
早田佑一;加纳丈嘉;渡辺彻 |
分类号 |
H01B1/02(2006.01);H01B1/08(2006.01);H01B1/20(2006.01);H01B13/00(2006.01);H05K1/09(2006.01);H05K3/40(2006.01) |
主分类号 |
H01B1/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>叶璟宗</name><name>郑婷文</name><name>詹富闵</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |