发明名称 溅镀靶
摘要 一种溅镀靶,其系具有金属相与氧化物相均匀分散之组织的烧结体溅镀靶,其特征在于:该金属相含有Co、Pt与Mn作为成分,该氧化物相含有至少以Mn为构成成分之氧化物。具有可降低溅镀时产生之颗粒量,并可提高成膜时之产率之优异效果。
申请公布号 TW201443261 申请公布日期 2014.11.16
申请号 TW103102624 申请日期 2014.01.24
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司; METALS CORPORATION 发明人 佐藤敦;荒川笃俊;高见英生;中村佑一郎
分类号 C23C14/34(2006.01);C23C14/08(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 <name>阎启泰</name><name>林景郁</name>
主权项
地址 日本