发明名称 |
溅镀靶 |
摘要 |
一种溅镀靶,其系具有金属相与氧化物相均匀分散之组织的烧结体溅镀靶,其特征在于:该金属相含有Co、Pt与Mn作为成分,该氧化物相含有至少以Mn为构成成分之氧化物。具有可降低溅镀时产生之颗粒量,并可提高成膜时之产率之优异效果。 |
申请公布号 |
TW201443261 |
申请公布日期 |
2014.11.16 |
申请号 |
TW103102624 |
申请日期 |
2014.01.24 |
申请人 |
JX日鑛日石金属股份有限公司; METALS CORPORATION |
发明人 |
佐藤敦;荒川笃俊;高见英生;中村佑一郎 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/08(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
<name>阎启泰</name><name>林景郁</name> |
主权项 |
|
地址 |
日本 |