取代闸极制程及应用其制得之元件;REPLACEMENT GATE PROCESS AND DEVICE MANUFACTURED USING THE SAME

摘要

一种取代闸极制程。提供一基板和形成一假性闸极结构于基板上,其中假性闸极结构包括一暂置层位于基板上,一硬质遮罩层位于暂置层上,间隙壁位于暂置层和硬质遮罩层之两侧,及一接触蚀刻停止层覆盖基板、间隙壁和硬质遮罩层层,其中间隙壁和接触蚀刻停止层系为相同材料。接着,移除接触蚀刻停止层之一顶部以暴露出硬质遮罩层。然后移除硬质遮罩层,再移除暂置层以形成一沟槽。