基板承载装置及等离子体加工设备

摘要

本发明提供的基板承载装置及等离子体加工设备,其在基板承载装置的上表面设置有复数个装片位,并且对应于每个装片位而在基板承载装置中设置有热交换气体进气通道,用以将热交换气体引导至装片位的上表面。其中该热交换气体进气通道包括:边缘进气通道和中间进气通道,边缘进气通道和中间进气通道的进气口均与外部的气源相连通,且边缘进气通道的出气口设置在装片位之上表面的边缘区域内,中间进气通道的出气口设置在装片位之上表面的中间区域。本发明提供的基板承载装置及等离子体加工设备,可以改善被加工元件之边缘区域的热交换效果,从而使被加工元件的边缘区域与中间区域的温度趋于均匀,进而提高等离子体加工技术的均匀性。