含钛之光阻下层膜形成用组成物及图案形成方法;COMPOSITION FOR FORMING TITANIUM-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM AND PATTERNING PROCESS

摘要

本发明提供用以形成图案密合性优异、蚀刻选择性优异之含钛之光阻下层膜的含钛之光阻下层膜形成用组成物。一种含钛之光阻下层膜形成用组成物，包含(A)成分、(B)成分及作为溶剂之(D)成分;(A)成分系选自于下列通式(A-1)、(A-2)表示之钛化合物、将该钛化合物予以水解或缩合、或水解缩合而得之含钛化合物中之1种以上;Ti(OR 1A )4(A-1) Ti(OR 1A )4-na(OR 2A O)na(A-2) (B)成分系选自于下列通式(B-1)、(B-2)表示之钛化合物、将该钛化合物予以水解或缩合、或水解缩合而得到之含钛化合物中之1种以上Ti(OR 1B )4(B-1) Ti(OR 1B )4-nb(OR 2B O)nb(B-2)。