| 发明名称 |
用于纯化矽之覆盖助熔剂及方法;COVER FLUX AND METHOD FOR SILICON PURIFICATION |
| 摘要 |
揭示了一种覆盖助熔剂之装置及方法。揭示之方法及装置使得，当固化界面从模之冷却表面朝向实质上相对于冷却表面的熔融矽之表面而移动时，杂质被赶出固态矽并进入液体中以与矽上的助熔剂层反应。 |
| 申请公布号 |
TW201442956 |
申请公布日期 |
2014.11.16 |
| 申请号 |
TW103102519 |
申请日期 |
2014.01.23 |
| 申请人 |
希利柯尔材料股份有限公司 |
发明人 |
特伦娜 亚连;努理 阿布杜拉;艾佛瑞 克里斯坦 |
| 分类号 |
C01B33/037(2006.01);C30B11/00(2006.01);C30B29/06(2006.01) |
主分类号 |
C01B33/037(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>杨长峯</name><name>李国光</name><name>张仲谦</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
