| 摘要 |
硫化水素や二酸化炭素などの酸性ガス汚染物質がこれらの汚染物質を含む混合ガス（３０）から除去される物理溶媒酸性ガス吸収プロセス（１２）内で生成するギ酸塩ベースの熱安定性塩の濃度を低減するためのプロセスを説明する。本プロセスは、ギ酸塩ベースの熱安定性塩（４６）を含む物理溶媒と金属系触媒および／または有機金属触媒（５２）とを接触させるステップを含み、この触媒は、パラジウム、亜鉛、白金、ニッケル、もしくはロジウム、および／または、これらの塩、および／または、これらの酸化物を含むことが好ましい。本プロセスは特に、冷却メタノール、ポリエチレングリコールのジアルキルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレンカーボネート、Ｎ−アセチルモルホリンとＮ−ホルミルモルホリンのブレンド、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノンなどの物理溶媒、特に汚染物質としてアンモニアを含む混合ガスに適している。【選択図】図１ |
