| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Spiegels, vorzugsweise für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage, bei welchem ein Spiegelsubstrat (1) mit einer oder mehreren Spiegelschichten (2) bereitgestellt wird und als schützende Deckschicht eine Oxidschicht abgeschieden wird, wobei die schützende Oxidschicht in mindestens zwei Teilschichten (5, 6) abgeschieden wird, wobei eine erste Teilschicht zunächst als Nicht-Oxidschicht abgeschieden wird, die anschließend oxidiert wird, und wobei eine zweite Teilschicht mittels reaktivem Zerstäuben abgeschieden wird. |
