| 摘要 |
【課題】スループット及び精度を改善することができる、ターゲット格子を使用したメトロロジ方法及び装置を提供する。【解決手段】リソグラフィプロセスにより基板上に１つ又は複数の周期構造を含むターゲット構造を形成し、ターゲット構造を放射ビームで照明しながらターゲット構造のイメージを検出する。このイメージはゼロ次回折放射を遮断しながら非ゼロ次回折放射の第１部分を用いて形成される。イメージ内の少なくとも１つの関心領域から抽出した強度値を用いて周期構造の特性、例えば、非対称性又はオーバーレイを決定する。ＲＯＩの位置を特定するため、プロセッシングユニットはターゲット構造のイメージにおける複数の境界フィーチャの位置を識別する。各方向における境界フィーチャの数は、ターゲット構造内の周期構造の境界の数の少なくとも２倍である。ＲＯＩの位置特定の精度は、１つ又は複数の周期構造の境界のみを識別する場合より高い。【選択図】図８ |
