发明名称 |
焦点補正を決定する方法、リソグラフィ処理セル及びデバイス製造方法 |
摘要 |
【課題】リソグラフィ投影装置の焦点補正を決定する方法及び関連する装置を提供する。【解決手段】本方法は、各々が複数のグローバル補正マークを含み各々がそれ全体に対して傾斜した焦点オフセットで露光される試験基板上に複数のグローバル補正フィールドを露光するステップと、複数のグローバル補正マークの各々について焦点依存特性を測定してフィールド間焦点変動情報を決定するステップと、フィールド間焦点変動情報からフィールド間焦点補正を計算するステップと、を含む。【選択図】図7 |
申请公布号 |
JP2014529903(A) |
申请公布日期 |
2014.11.13 |
申请号 |
JP20140527573 |
申请日期 |
2012.08.09 |
申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
发明人 |
キステマン,アレンド;キールス,アントイネ;テル,ウィム;テウヴェス,トーマス |
分类号 |
H01L21/027;G01B11/00;G03F9/02 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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