电介质材料处理系统和操作方法

摘要

一种用于固化衬底上的低介电常数(低k)电介质膜的系统，其中，低k电介质膜的介电常数小于约4的值。该系统包括一个或多个处理模块，所述处理模块构造为将低k电介质膜暴露于电磁(EM)辐射，例如红外(IR)辐射和紫外(UV)辐射。

主权项

一种用于处理衬底上的电介质膜的处理模块，其包括：处理室；衬底支架，其连接到所述处理室，并构造成支承衬底，在所述衬底上具有电介质膜；和辐射源，其连接到所述处理室，并构造成将所述电介质膜暴露于电磁(EM)辐射，其中，所述辐射源包括一个或多个红外(IR)源，并且其中，所述一个或多个IR源中的每一个都包括具有窄波段的单色的电磁(EM)辐射，所述电磁(EM)辐射包含在9微米至10微米的光谱范围内的波长的EM辐射，其中所述辐射源还包括光学系统，并且所述光学系统还包括：光束定尺寸设备，其构造成调整EM辐射光束的尺寸，其中所述处理模块还包括辐射扫描设备，其连接到所述处理室，并构造成使来自所述IR辐射源的所述一个或多个IR光束移动，以沿着所述衬底扫描来自所述IR辐射源的所述一个或多个IR光束。