发明名称 半導体装置及びその製造方法
摘要 <p>According to one embodiment, a semiconductor device includes a plurality of silicon films. The plurality of silicon films are disposed on one plane and are made of polysilicon containing an impurity. A crystal orientation of each of the silicon films is a (311) orientation.</p>
申请公布号 JP5624425(B2) 申请公布日期 2014.11.12
申请号 JP20100231911 申请日期 2010.10.14
申请人 发明人
分类号 H01L27/105;H01L45/00;H01L49/00 主分类号 H01L27/105
代理机构 代理人
主权项
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