| 发明名称 | 具有防光晕层的全息记录介质和其制备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种层状结构(100,200,300)，其具有基底层(104)和至少一个结合了载体箔（102）和位于其上的记录层（101）的复合材料，其中所述层状结构（100,200,300）包括可从结合了载体箔(102)和记录层(101)的复合材料上移除的黑层（103），其特征在于所述记录层（101）是由包含多异氰酸酯组分、异氰酸酯反应性组分、至少一种写入单体和至少一种光引发剂的光敏聚合物组合物形成的光敏聚合物。本发明进一步提供了制备这种层状结构（100,200,300）的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN104143346A | 申请公布日期 | 2014.11.12 |
| 申请号 | CN201410192595.5 | 申请日期 | 2014.05.08 |
| 申请人 | 拜耳材料科技股份有限公司 | 发明人 | M-S.魏泽;F-K.布鲁德;R.哈根;G.瓦尔策;T.罗勒;H.贝内特;D.赫内尔;T.法伊克 |
| 分类号 | G11B7/0065(2006.01)I;G11B7/241(2006.01)I | 主分类号 | G11B7/0065(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 赵苏林;万雪松 |
| 主权项 | 具有基底层(104)和至少一个结合了载体箔(102)和位于其上的记录层(101)的复合材料的层状结构 (100, 200, 300)，其中 所述层状结构 (100, 200, 300) 包括可从结合了载体箔(102)和记录层(101)的复合材料上移除的黒层 (103)，其特征在于记录层(101)是由包含多异氰酸酯组分、异氰酸酯反应性组分、至少一种写入单体和至少一种光引发剂的光敏聚合物组合物形成的光敏聚合物。 | ||
| 地址 | 德国莱沃库森 | ||