发明名称 一种碳化硅外延炉的清理装置
摘要 本实用新型公开了一种碳化硅外延炉的清理装置,其包括一采用碳化硅材料制作的清理触头;一手柄,于手柄中设置有发光电路,该发光电路中至少包括两个发光回路,每个发光回路中设置有不同颜色的发光体;所述的清理触头安装在手柄上,并且二者之间连接有弹性伸缩件,于弹性伸缩件的压缩行程范围内至少设置有两个电极点,当清理触头受外力压缩而触发任意一个电极点时,发光电路中的一个发光回路导通,触发对应回路中的发光体发光。本实用新型采用上述技术方案后,可以保证不同的操作人员在清理外延炉的时候,保持均匀的力量清除外延过程中沉积的3C-SiC,而不损伤外延炉内表面材质,从而保证每次清理后的洁净度和均匀性,确保产品的稳定性和可持续性。
申请公布号 CN203938749U 申请公布日期 2014.11.12
申请号 CN201420161999.3 申请日期 2014.04.03
申请人 东莞市天域半导体科技有限公司 发明人 张新河;孙国胜;韩景瑞;刘丹;李锡光;萧黎鑫
分类号 C30B25/02(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I;F27D25/00(2010.01)I 主分类号 C30B25/02(2006.01)I
代理机构 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人 罗晓聪
主权项 一种碳化硅外延炉的清理装置,其特征在于:该清理装置包括:一采用碳化硅材料制作的清理触头(1);一手柄(2),于手柄(2)中设置有发光电路(4),该发光电路(4)中至少包括两个发光回路,每个发光回路中设置有不同颜色的发光体(41或42);所述的清理触头(1)安装在手柄(2)上,并且二者之间连接有弹性伸缩件(3),于弹性伸缩件(3)的压缩行程范围内至少设置有两个电极点(43、44),当清理触头(1)受外力产生压缩触发任意一个电极点(43或44)时,发光电路中的一个发光回路导通,触发对应回路中的发光体(41或42)发光。
地址 523000 广东省东莞市松山湖北部工业北一路五号