发明名称 | 柔性显示基板的制作方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种柔性显示基板的制作方法,涉及显示技术领域。本发明提供的柔性显示基板的制作方法,包括:在载体基板上制备打底层;在打底层上制备柔性衬底基板;在柔性衬底基板上制备电子器件;将打底层由柔性衬底基板背面去除,得到柔性显示基板。本发明的柔性显示基板的制作方法使柔性衬底基板的背面只和打底层接触,不会有气泡对柔性衬底基板的背面产生破坏,由此在保证柔性衬底基板平坦度和精确固定柔性衬底基板的前提下,避免柔性显示基板发生塑性形变。 | ||
申请公布号 | CN102738078B | 申请公布日期 | 2014.11.12 |
申请号 | CN201210212242.8 | 申请日期 | 2012.06.21 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 周伟峰 |
分类号 | H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 黄灿;吕品 |
主权项 | 一种柔性显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在载体基板上制备打底层:在所述打底层上制备柔性衬底基板;在所述柔性衬底基板上制备电子器件;将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除,得到柔性显示基板,所述将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除的步骤包括:照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解,然后通过去除溶液将所述打底层去除,所述载体基板是透明基板,所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解,然后通过去除溶液将所述打底层去除的步骤包括:在所述载体基板的背面进行光线照射,使所述打底层发生光化学反应并分解;通过去除溶液将所述打底层去除,使得所述透明基板与所述柔性衬底基板分离,所述打底层材料为能够在紫外线下分解的材料,所述光线为紫外线,所述打底层材料为正性光刻胶。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |