发明名称 一种曝光装置及其方法
摘要 一种曝光装置及方法,该装置包括照明单元,发出相干光束;棱镜集合,该相干光束经由该棱镜集合形成多数平行的干涉臂出射;干涉头,将该些平行的干涉臂干涉形成干涉条纹;以及基底,该干涉条纹位于该基底表面;其特征在于,该棱镜集合包括第一棱镜及第二棱镜,该第一棱镜与第二棱镜沿光传播方向的间距可调节,且该些平行的干涉臂经由该干涉头后汇聚的高度恒定。
申请公布号 CN102736427B 申请公布日期 2014.11.12
申请号 CN201110086800.6 申请日期 2011.04.07
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 许琦欣;王帆
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项 一种曝光装置,沿光传播方向包括:照明单元,发出平行的相干光束;包括第一棱镜及第二棱镜的棱镜集合,该平行的相干光束经由该棱镜集合形成多数平行的干涉臂出射,其中,该第一棱镜与第二棱镜沿光传播方向的间距可调节,该第一棱镜,包括一由多数第一切面形成的凹部,且该些第一切面会合于第一点,该第二棱镜,包括一由多数第二切面形成的凸部,且该些第二切面会合于第二点,该凸部与该凹部相匹配;以及干涉头,将该些平行的干涉臂干涉形成干涉条纹,且该些平行的干涉臂经由该干涉头后汇聚的高度恒定。
地址 201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号