发明名称 |
一种曝光装置及其方法 |
摘要 |
一种曝光装置及方法,该装置包括照明单元,发出相干光束;棱镜集合,该相干光束经由该棱镜集合形成多数平行的干涉臂出射;干涉头,将该些平行的干涉臂干涉形成干涉条纹;以及基底,该干涉条纹位于该基底表面;其特征在于,该棱镜集合包括第一棱镜及第二棱镜,该第一棱镜与第二棱镜沿光传播方向的间距可调节,且该些平行的干涉臂经由该干涉头后汇聚的高度恒定。 |
申请公布号 |
CN102736427B |
申请公布日期 |
2014.11.12 |
申请号 |
CN201110086800.6 |
申请日期 |
2011.04.07 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
许琦欣;王帆 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种曝光装置,沿光传播方向包括:照明单元,发出平行的相干光束;包括第一棱镜及第二棱镜的棱镜集合,该平行的相干光束经由该棱镜集合形成多数平行的干涉臂出射,其中,该第一棱镜与第二棱镜沿光传播方向的间距可调节,该第一棱镜,包括一由多数第一切面形成的凹部,且该些第一切面会合于第一点,该第二棱镜,包括一由多数第二切面形成的凸部,且该些第二切面会合于第二点,该凸部与该凹部相匹配;以及干涉头,将该些平行的干涉臂干涉形成干涉条纹,且该些平行的干涉臂经由该干涉头后汇聚的高度恒定。 |
地址 |
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 |