电浆处理装置，电浆处理方法及记忆媒体

摘要

本发明的课题是在电浆处理装置中，大幅度改善充电损伤的发生，而实现电浆处理的安定性及可靠度的提升，且实现电浆处理的面内均一性的提升。;其解决手段是在真空排气可能的处理容器(10)中平行配置上部电极(38)与下部电极(12)，从第1高频电源(32)经由第1整合器(34)来对下部电极(12)施加第1高频。控制部(68)是控制第1高频电源(32)，而使有助于电浆生成的第1高频具有使电浆生成的第1振幅之第1期间、与具有不使电浆实质生成的第2振幅之第2期间能够以所定的周期来交替重复。

主权项

一种电浆蚀刻方法，系使用电浆蚀刻装置，在上述处理空间生成上述处理气体的电浆，而对上述被处理体实施蚀刻处理之电浆蚀刻方法，该电浆蚀刻装置系具有：处理容器，其系可真空排气；第1电极，其系于上述处理容器内载置被处理体；第2电极，其系于上述处理容器内与上述第1电极平行相对，且被接地；处理气体供给部，其系供给含O2气体的处理气体至上述第1电极与上述第2电极之间的处理空间；第1高频给电部，其系对上述第1电极施加具有30MHz以上的频率之第1高频，其特征为：具有：藉由第1期间及第2期间周期性地重复，而来蚀刻具有闸极氧化膜上的多晶矽膜的被处理体之阶段，在上述第1期间中，高频电力系以由上述处理气体生成电浆的第1振幅来供给至上述第1电极，在上述第2期间中，上述高频电力系以不生成电浆的第2振幅来施加于上述第1电极，上述第1期间的长度为2μsec~50μsec，上述第2期间的长度为2μsec以上，上述周期的长度为4μsec~200μsec。