光罩之制造方法

摘要

一种光罩制造方法，将空白光罩设置于旋转装置的载置部，以旋转装置控制空白光罩方向而设置于曝光描绘机，进行曝光描绘，该光罩制造方法具有：缺陷资讯记忆程序，系将已于端面设有识别标记的空白光罩中之缺陷资讯，与识别标记相对应地记忆于资讯记忆装置；设置方向决定程序，系决定空白光罩对曝光描绘机的设置方向；方向补正程序，系以使空白光罩制的方向成为经决定的方向之方式，旋转控制旋转装置。设置方向决定程序，系以检测器检测空白光罩之识别标记，查询资讯记忆装置取得缺陷资讯，由空白光罩之描绘资讯及缺陷资讯，决定设置方向。

主权项

一种光罩之制造方法，系将在基板上面依序积层遮罩图案用薄膜及阻剂膜而成之空白光罩(mask blank)设置于旋转装置之载置部，以前述旋转装置控制前述空白光罩的方向来设置于曝光描绘机，以前述曝光描绘机将遮罩图案曝光描绘于前述阻剂膜；其特征为，具有：缺陷资讯记忆程序，系将由缺陷种类及缺陷位置所构成的缺陷资讯，与识别标记相对应地记忆于资讯记忆装置，其中前述缺陷种类系与已在前述基板之至少一端面设有前述识别标记的前述空白光罩中之基板、前述遮罩图案用薄膜、及前述阻剂膜当中至少一个有关，而前述缺陷位置系以前述识别标记的位置作为基准；设置方向决定程序，系以前述识别标记的方向作为基准来决定前述空白光罩对前述曝光描绘机的设置方向；及方向补正程序，系以前述识别标记方向作为基准，以使前述载置部上之前述空白光罩的方向成为已在前述设置方向决定程序决定之前述设置方向的方式，旋转控制前述旋转装置，前述设置方向决定程序，系以检测器检测经设置于前述载置部上之前述空白光罩的识别标记，查询前述资讯记忆装置取得前述缺陷资讯，由前述曝光描绘机曝光描绘之遮罩图案的描绘资讯及前述缺陷资讯决定前述设置方向，使遮罩图案在前述基板上的配置不会让前述缺陷对由前述空白光罩所制作之光罩的图案转印功能产生不良影响。