发明名称 气体之纯化方法及气体纯化装置
摘要 本发明提供一种气体纯化方法,其具有以下步骤:使原料气体与触媒接触而生成二氧化碳与水之步骤;使前述与触媒接触后之前述原料气体与水吸着剂接触,藉以除去水之步骤;使除去前述水后之前述原料气体与镍触媒接触,藉以除去反应残渣之氧之步骤;以及使除去前述氧后之前述原料气体与含有钠0.1至10wt%之氧化铝接触,藉以除去二氧化碳之步骤。根据本发明,在除去烃类、氢、一氧化碳、二氧化碳、氧及水以纯化由氮气或稀有气体所成原料气体时,可将纯化装置致密化、可降低高价触媒之充填量、且可降低纯化成本。
申请公布号 TWI460003 申请公布日期 2014.11.11
申请号 TW100130631 申请日期 2011.08.26
申请人 大阳日酸股份有限公司 日本 发明人 足立贵义;藤江和彦
分类号 B01D53/86;B01D53/04;B01J23/755;B01J20/08 主分类号 B01D53/86
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项 一种气体之纯化方法,系除去由氮气或稀有气体所构成之原料气体中之甲烷、氢、一氧化碳、二氧化碳、氧及水者,其特征为具备下列步骤:对前述原料气体供给氧,直到成为化学计量法上得以氧化甲烷、氢及一氧化碳以上的量为止后,使前述原料气体与触媒接触,而使甲烷、氢及一氧化碳与氧反应,藉以全部转换成二氧化碳与水之步骤;使与前述触媒接触后之前述原料气体与水份吸着剂接触,藉以除去水之步骤;使除去前述水后之前述原料气体与镍触媒接触,藉以除去反应残渣之氧之步骤;以及使除去前述氧后之前述原料气体与含有钠0.1至10wt%之氧化铝接触,藉以除去二氧化碳之步骤;其中,前述镍触媒之充填量为仅除去反应残渣之氧的量。
地址 日本