决定方法、储存媒体及资讯处理设备

摘要

本发明提供一种决定曝光设备的曝光条件的决定方法，该曝光设备包括照射掩模的照射光学系统和将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该方法包括：设定用于在照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布的照射参数和用于投影光学系统的像差的像差参数的步骤；以及决定照射参数的值和像差参数的值以使得掩模的图案的光学影像的影像性能满足对于要在投影光学系统的像面上形成的目标图案设定的评估准则的步骤。

主权项

一种决定曝光设备的曝光条件的决定方法，该曝光设备包括照射掩模的照射光学系统和将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该方法包括：第一步骤，设定用于在照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布的照射参数和用于投影光学系统的像差的像差参数；第二步骤，使用该照射参数和该像差参数计算该掩模的图案的光学影像的影像性能，该掩模的图案的该光学影像与要被放置在该投影光学系统的物面上的掩模的图案对应地在该投影光学系统的像面中形成；第三步骤，反覆该计算步骤但改变该照射参数的值和该像差参数的值；和第四步骤，根据由该第三步骤所计算的该影像性能的结果决定照射参数的值和像差参数的值，由此决定分别由所决定的照射参数的值和所决定的像差参数的值定义的在该照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布和该投影光学系统的像差作为曝光条件。