发明名称 |
产生一氧化碳气体之装置与方法以及产生渗碳用氛围气体之装置与方法 |
摘要 |
本发明提供一种产生一氧化碳气体之装置,其可以一氧化碳气体收率高且得以减低维护而运转。该装置具备一反应器,其系导入碳化氢系气体与氧系气体及水蒸气作为原料气体,藉由使上述原料气体与触媒进行催化反应而产生碳化氢系气体之燃烧反应以及转化反应,而使作为富含氢气且一氧化碳气体浓度高的混合气体产生一氧化碳气体,藉由于上述反应器下游导入水蒸气,使得可以一氧化碳气体收率高且得以减低维护之方式运转。 |
申请公布号 |
TWI460128 |
申请公布日期 |
2014.11.11 |
申请号 |
TW097119255 |
申请日期 |
2008.05.23 |
申请人 |
爱沃特股份有限公司 日本 |
发明人 |
成田悟;松田英明;松林良佑;赤阪秀史;青木宽治 |
分类号 |
C01B31/18;C23C8/20 |
主分类号 |
C01B31/18 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种产生一氧化碳气体之装置,其特征为具备反应器与分离装置,其中,该反应器系导入碳化氢系气体与氧系气体及水蒸气作为原料气体,藉由使上述原料气体与经Rh改质之(Ni-CeO2)-Pt触媒进行催化反应而产生碳化氢系气体之燃烧反应以及转化反应,而使作为富含氢气且一氧化碳气体浓度高的混合气体产生一氧化碳气体,该分离装置系由在上述反应器所产生之混合气体分离作为制品气体之一氧化碳气体,并于上述反应器下游,作为用以抑制碳在配管内部等之金属表面上析出之流体,系导入含有以H2O为主之流体。 |
地址 |
日本 |