| 发明名称 |
钼靶材的制造方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种可发挥各钼(Mo)原料粉末的特征、并且有效率地获得低氧且高密度的钼靶材的制造方法。本发明是一种钼靶材的制造方法，对将钼粉末A与钼粉末B混合而成的混合粉进行加压烧结，其中上述钼粉末A是将氧化钼还原然后解碎而将平均粒径调整为2 μm～15 μm的钼粉末，上述钼粉末B是将密度为6.64×10(kg/m3)以上的钼块体作为原料并藉由粉碎而将平均粒径调整为50 μm～2000 μm的钼粉末。 |
| 申请公布号 |
TWI460036 |
申请公布日期 |
2014.11.11 |
| 申请号 |
TW100135626 |
申请日期 |
2011.09.30 |
| 申请人 |
日立金属股份有限公司 日本 |
发明人 |
齐藤和也;畠知之;上滩真史;高岛洋 |
| 分类号 |
B22F3/12;B22F9/04;B22F9/20;B01F3/18;C23C14/34 |
主分类号 |
B22F3/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种钼靶材的制造方法，其特征在于：对将钼粉末A与钼粉末B混合而成的混合粉进行加压烧结，其中上述钼粉末A是将氧化钼还原然后解碎而将平均粒径调整为2 μm～15 μm的钼粉末，上述钼粉末B是将密度为6.64×103kg/m3以上的钼块体作为原料并藉由粉碎而将平均粒径调整为50 μm～2000 μm的钼粉末。 |
| 地址 |
日本 |
