Verfahren zur Generierung gezielter Defektstrukturen in einem strukturierten Metalloxid und dessen Verwendung

摘要

Mit der vorliegenden Erfindung soll ein verbessertes und effizienteres Verfahren zur Generierung gezielter Defektstrukturen in einem strukturierten Metalloxid bereitgestellt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf einer Temperaturbehandlung des strukturierten Metalloxids in entsprechenden Gasatmosphären bei relativ niedrigen Temperaturen, wobei der Behandlungserfolg durch die chemische Aktivierung des Gases (Dissoziation, Ionisation) bewirkt wird. Die Aktivierung des Gases ist mit verschiedenen Methoden realisierbar. Ein nach dem erfindungsgemäßen Verfahren behandeltes Metalloxid kann z. B. als Elektrodenmaterial für Lithium-Ionen-Batterien, Superkondensatoren oder Farbstoffsolarzellen, als Katalysatormaterial für die Photo- oder Elektrokatalyse oder als aktives Material für elektrochemische Sensoren verwendet werden.