| 发明名称 | 附接的染料在光学数据存储介质中的用途 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光学介质(140)和这类介质(140)的形成和用途。在某些实施方案中，所述光学介质(140)或适于这类介质的组合物包含聚合物基质或衬底。诸如能量传递染料的染料诸如通过一个或多个共价键化学附接到所述聚合物基质或衬底上。 | ||
| 申请公布号 | CN102399456B | 申请公布日期 | 2014.11.05 |
| 申请号 | CN201110266521.8 | 申请日期 | 2011.08.31 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | A.纳塔拉延;E.M.金;V.H.沃金斯;J.L.李;P.J.麦克罗斯基;陈国邦;M.J.米斯纳;V.P.奥斯特罗弗霍夫 |
| 分类号 | C09B69/10(2006.01)I;G11B7/248(2006.01)I;G11B7/247(2013.01)I;G11B7/246(2013.01)I | 主分类号 | C09B69/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 徐晶;林森 |
| 主权项 | 组合物，其包含：聚合物基质；布置在所述聚合物基质内且在激发时能够经历光化学改变的反应物(122)；和化学结合到所述聚合物基质的非线性敏化剂(120)，其中在暴露于一种或多种辐射波长时所述非线性敏化剂(120)引起所述反应物(122)的折光指数改变，其中所述非线性敏化剂(120)包含一种或多种亚酞菁反饱和吸收剂。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||