发明名称 电流沿横向流动的电子器件用外延基板及其生产方法
摘要 提供一种使用横向作为电流传导方向的电子器件用外延基板,其中可非接触地精确测量HEMT薄层电阻。还提供一种用于有效制造电子器件用外延基板的方法,其特征在于包括在高电阻Si单晶基板的一个表面上形成杂质扩散抑制层的步骤,在前述高电阻Si单晶基板的另一表面上形成作为绝缘层的缓冲层的步骤,通过在所述缓冲层上外延生长多个第III族氮化物层以形成主层压体来制备外延基板的步骤,以及非接触测量所述外延基板的主层压体的电阻的步骤。
申请公布号 CN102498547B 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201080041478.9 申请日期 2010.07.13
申请人 同和电子科技有限公司 发明人 生田哲也;日野大辅;坂本陵;柴田智彦
分类号 H01L21/205(2006.01)I;H01L21/338(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L29/812(2006.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种生产电子器件用外延基板的方法,其包括以下步骤:在电阻率为5000Ω.cm以上的高电阻Si单晶基板的一个表面上形成杂质扩散阻挡层;在所述高电阻Si单晶基板的另一表面上形成作为绝缘层的缓冲层;通过在所述缓冲层上外延生长多个第III族氮化物层以形成主层压体来生产外延基板;和非接触测量所述外延基板的所述主层压体的电阻,其中在外延生长多个第III族氮化物层期间所述杂质扩散阻挡层防止第III族元素从所述高电阻Si单晶基板的所述一个表面扩散到所述高电阻Si单晶基板,和其中横向为所述外延基板中的电流流动方向。
地址 日本东京都