发明名称 曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法
摘要 本发明提供能够抑制随着光源部的照射时间的增加而导致的照度下降的曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法。该曝光装置用光照射装置具备:多个光源部(73),其包括发光部(71)和反射光学系统(72);多个闸盒(81),其以光源支承部(83)支承光源部(73),以使来自预定数量的光源部(73)的光射入到复眼透镜(74)的入射面上;支承体(82),其具有用于安装多个闸盒(81)的多个闸盒安装部(90),以使全部的光源部(73)的光射入到复眼透镜(74)的入射面上;以及光轴角度调节机构(99),其可对各光源部(73)的光轴角度进行调节。
申请公布号 CN102483587B 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201180001999.6 申请日期 2011.07.20
申请人 恩斯克科技有限公司 发明人 原田智纪;永井新一郎;川岛洋德;山田丰;轻石修作;林慎一郎
分类号 G03F7/20(2006.01)I;F21S2/00(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 代理人 陈波;高永懿
主权项 一种曝光装置用光照射装置的控制方法,该曝光装置用光照射装置具备:多个光源部,分别包括发光部和使从该发光部发出的光具有方向性地射出的反射光学系统;多个闸盒,具有分别支承所述光源部的光源支承部,以使预定数量的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面;支承体,具有分别用于安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部,以使全部的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面;以及光轴角度调节机构,可对所述各光源部的相对于所述复眼透镜的光轴角度进行调节,以修正随着所述各光源部的照射时间的增加而产生的所述光的扩散,所述控制方法包括:用于检测随着所述各光源部的照射时间的增加而产生的所述光的扩散的工序,和由所述光轴角度调节机构修正所述光的扩散的工序,所述预定数量的光源部由光谱特性不同的多种光源部构成,所述预定数量的光源部的各发光部的光谱特性相同,通过在所述预定数量的光源部的一部分上设置波长截止滤光片,构成光谱特性不同的所述多种光源部,在所述各闸盒安装部(90)的开口部(90a)的周围形成以所述光源支承部(83)周围的矩形平面所对置的平面(90b)为底面的多个闸盒用凹部(90c),在所述各闸盒用凹部(90c)的周围设置了用于固定所述各闸盒(81)的闸盒固定机构(93),所述各闸盒用凹部(90c)的邻近的平面(90b)以预定的角度γ交叉,所述光谱特性不同的多种光源部包含:安装有所述波长截止滤光片的带滤光片的光源部、和没有所述波长截止滤光片的无滤光片的光源部,在没有进行曝光的状态下,测定所述带滤光片的光源部和所述无滤光片的光源部的各波长中的照度,基于测定的结果,确定所述带滤光片的光源部和所述无滤光片的光源部的点亮的发光部的功率和个数,以点亮发光部,使得所述带滤光片的光源部与所述无滤光片的光源部分别为点对称。
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