发明名称 |
晶片透镜的制造方法 |
摘要 |
本发明的课题是在晶片透镜的制造中使光轴上的厚度为一定。该课题的晶片透镜的制造方法,备有:在模具(64)上滴下树脂的分配工序;将模具(64)和玻璃基板(2)的一方压到另一方的转印工序;从模具(64)脱模玻璃基板(2)的脱模工序;作为1循环反复从分配工序到脱模工序的处理,在玻璃基板(2)上依次形成树脂制透镜部(4),其中,在第1循环的脱模工序和第2循环的分配工序之间,测定透镜部(4)周边非透镜部(6)的高度位置(A)和玻璃基板(2)的高度位置(B、C),在第2循环和该第2循环以后的转印工序中,根据高度位置(A~C),修正模具(64)的配置。 |
申请公布号 |
CN102497966B |
申请公布日期 |
2014.11.05 |
申请号 |
CN201080038471.1 |
申请日期 |
2010.08.23 |
申请人 |
柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
发明人 |
藤井雄一;藤本章弘;泷谷俊哉;细江秀 |
分类号 |
B29C39/06(2006.01)I;B29C39/10(2006.01)I;B29C39/44(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)I |
主分类号 |
B29C39/06(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
史雁鸣 |
主权项 |
一种晶片透镜的制造方法,备有:分配工序,在平坦面和在该平坦面具有成型面的模具中滴下光固化性树脂;转印工序,将所述模具和玻璃基板的一方压到另一方;曝光工序,在所述转印工序之后对所述光固化性树脂照射光;脱模工序,从所述模具脱模所述玻璃基板;作为1循环,在所述玻璃基板的第1位置上进行从分配工序到脱模工序的处理,然后,使所述模具相对所述玻璃基板移动,在所述玻璃基板的第2位置上再进行上述1循环,多次反复上述,在所述玻璃基板上依次形成树脂透镜部,晶片透镜制造方法的特征在于,在第1循环的脱模工序和第2循环的分配工序之间,具有测定所述透镜部周边非透镜部的非透镜部位置与所述玻璃基板上为模具模压树脂一面的第1玻璃位置之间的距离之工序,在第2循环和该第2循环以后的转印工序中,根据在所述测定工序测定到的距离,修正转印工序中模具对玻璃基板的模压位置。 |
地址 |
日本东京 |