一种取样光栅的制作方法

摘要

本发明提供了一种取样光栅的制作方法，包括：提供基板，并在所述基板上制作取样光栅；测量所述取样光栅上各个区域的衍射效率；当所述取样光栅上某区域的衍射效率大于预设的衍射效率范围时，对该区域进行研磨，直至该区域的衍射效率在预设的衍射效率范围内。本发明的制作方法可以制作出的均匀性较好的取样光栅。

主权项

一种取样光栅的制作方法，其特征在于，包括：A、提供基板，并在所述基板上制作取样光栅；B、利用光电探测器测量所述取样光栅上各个区域的衍射效率；C、当所述取样光栅上某区域的衍射效率大于预设的衍射效率范围时，查询预先建立的光栅衍射效率与光栅槽形参数的对应关系，确定对该区域进行研磨的深度和方向；依据所述研磨的深度和方向，对所述取样光栅上衍射效率大于预设范围的区域进行研磨，直至该区域的衍射效率在预设的衍射效率范围内；其中，所述研磨的方式为光学冷加工的研磨抛光技术，对所述取样光栅的栅齿的线条进行研磨。