| 发明名称 | 谱成像 | ||
| 摘要 | 一种成像系统包括：辐射源(106)，其发射贯穿检查区域和其中的对象的部分的辐射；以及探测器阵列(114)，其探测贯穿所述检查区域和其中的所述对象的所述部分的辐射且生成指示所述辐射的信号。体积扫描参数推荐器(120)基于由所述辐射源和所述探测器阵列采集的第一2D投影和第二2D投影的谱分解来推荐针对所述对象的所述部分的体积扫描的至少一个谱扫描参数值。所述第一2D投影和所述第二2D投影具有不同的谱特性。控制台(122)采用所推荐的至少一个谱扫描参数值以执行所述对象的所述部分的所述体积扫描。 | ||
| 申请公布号 | CN104136938A | 申请公布日期 | 2014.11.05 |
| 申请号 | CN201380010974.1 | 申请日期 | 2013.02.20 |
| 申请人 | 皇家飞利浦有限公司 | 发明人 | D·舍费尔;A·特伦;T·克勒 |
| 分类号 | G01T1/29(2006.01)I | 主分类号 | G01T1/29(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 刘瑜;王英 |
| 主权项 | 一种成像系统(100)，包括：辐射源(106)，其发射贯穿检查区域和在其中的对象的部分的辐射；探测器阵列(114)，其探测贯穿所述检查区域和在其中的所述对象的所述部分的辐射并生成指示所述辐射的信号；体积扫描参数推荐器(120)，其基于由所述辐射源和所述探测器阵列采集的第一2D投影和第二2D投影的谱分解来推荐针对所述对象的所述部分的体积扫描的至少一个谱扫描参数值，其中，所述第一2D投影和所述第二2D投影具有不同的谱特性；以及控制台(122)，其采用所推荐的至少一个谱扫描参数值来执行所述对象的所述部分的所述体积扫描。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||