激光能量控制方法和系统

摘要

本发明提供一种激光能量控制方法和系统。所述方法包括：获取激光器的平均发射功率，判断所述平均发射功率和存储器中的预设功率之间的大小，根据判断结果调整所述激光器的激光发射脉冲占空比使所述平均发射功率趋于预设功率。上述激光能量控制方法和系统，通过获取激光器的平均发射功率，判断平均发射功率和存储器中的预设功率之间的大小，根据判断结果调整激光器的激光发射脉冲占空比使平均发射功率趋于预设功率，从而使激光器的平均发射功率保持稳定，激光打标时使标记的颜色和深度均匀，提高了加工质量和加工效率。

主权项

一种激光能量控制方法，包括如下步骤：获取激光器的平均发射功率；判断所述平均发射功率和存储器中的预设功率之间的大小；根据判断结果调整所述激光器的激光发射脉冲占空比以使所述平均发射功率趋于预设功率；所述根据判断结果调整所述激光器的激光发射脉冲占空比以使所述平均发射功率趋于预设功率的步骤为：若所述平均发射功率大于预设功率，则按预设的能量等级逐步减少激光发射脉冲占空比；若所述平均发射功率小于预设功率，则按预设的能量等级逐步增加激光发射脉冲占空比；其中，能量等级是指发射功率的量化级别，按照能量等级逐步增加或逐步减少是指按照线性方式逐步调节发射功率；所述方法还包括将激光器在预设参数下稳定工作时的发射功率自动保存到存储器中作为预设功率的步骤，在激光器充分冷却后启动激光器，并在预设好的参数下运行，该激光器的工作状态是稳定的工作状态，获取的发射功率是预设参数下的发射功率，将所述发射功率保存到存储器中作为用来对比的预设功率。