发明名称 |
立体结构的磁隧道结的形成方法及形成设备 |
摘要 |
本发明实施例提供了一种立体结构的磁隧道结的形成设备,所述形成设备的结构简单,为本发明实施例的立体结构的磁隧道结的形成方法提供了有利条件。本发明实施例的形成方法中,发明人采用固态的第一反应物、固态的第二反应物和气态的第三反应物,利用原子层沉积工艺,形成作为立体结构的磁隧道结中的磁材料层的CoFeB薄膜,形成的CoFeB薄膜的质量好,后续形成的磁存储器的可靠性高。 |
申请公布号 |
CN103066200B |
申请公布日期 |
2014.11.05 |
申请号 |
CN201110319026.9 |
申请日期 |
2011.10.19 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
三重野文健 |
分类号 |
H01L43/12(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/38(2006.01)I;G11C11/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种立体结构的磁隧道结的形成设备,包括用于形成磁材料层的反应腔室,其特征在于,所述反应腔室包括:镀膜室,所述镀膜室一腔室壁上具有至少一个开孔;第二供气单元,所述第二供气单元与所述镀膜室内的开孔相连,用于提供乙硼烷;位于所述镀膜室内的第一加热器,所述第一加热器位于所述开孔位置的正下方;位于所述镀膜室上的第二加热器;位于所述第二加热器表面的第一子反应腔,所述第一子反应腔与所述开孔相连,用于提供固态的第一反应物;位于所述第二加热器表面的第二子反应腔,所述第二子反应腔与所述第一子反应腔相互分立,且与所述开孔相连,用于提供固态的第二反应物。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |