发明名称 一种渐进式金属层的金属化膜
摘要 本实用新型涉及一种渐进式金属层的金属化膜,所述金属化膜包括:基膜和金属蒸镀膜,金属蒸镀膜仅设置在基膜一侧的表面上并未完全覆盖,在基膜上留有空白的屏带,所述屏带的宽度为:1~3mm;所述金属蒸镀膜至少包括锌基层,锌基层远离屏带处的厚度越厚,靠近屏带处的厚度越薄。本实用新型所述金属化膜,采用渐进式金属化膜,防止靠近留边处的金属化膜被击穿,且采用波浪分切结构,其卷绕成的电容芯体与金属化层接触面积相对直线分切膜增大,大大减小了接触电阻,提高了其耐脉冲和大电流的能力,避免了电容器的失效,满足实际使用要求,实施效果好。
申请公布号 CN203931821U 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201420319251.1 申请日期 2014.06.16
申请人 安徽省宁国市海伟电子有限公司 发明人 宋仁祥
分类号 H01G4/015(2006.01)I 主分类号 H01G4/015(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种渐进式金属层的金属化膜,其特征是,所述金属化膜包括:基膜(10)和金属蒸镀膜(20),金属蒸镀膜(20)仅设置在基膜(10)一侧的表面上并未完全覆盖,在基膜(10)上留有空白的屏带(11),所述屏带(11)的宽度为:1~3mm;所述金属蒸镀膜(20)至少包括锌基层(22),锌基层(22)远离屏带(11)处的厚度越厚,靠近屏带(11)处的厚度越薄。
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