用于数据库辅助式重新质量鉴定光罩检验的方法及设备

摘要

本发明揭示一种方法实施例，其包含提供光罩设计数据，所述光罩设计数据规定形成于使用所述光罩的晶片上的多个可印刷特征及不形成于使用此光罩的所述晶片上的多个不可印刷特征，其中所述光罩设计数据可用于制作所述光罩。从所述光罩设计数据产生减小的设计数据库，且此减小的设计数据库包含所述光罩的所述不可印刷特征的描述或图谱、所述光罩的多个单元间区域的描述或图谱及从所述光罩设计数据光栅化的灰度级光罩图像。将所述减小的设计数据库以及所述光罩传送到制作设施，使得所述减小的设计数据库可用于周期性地检验所述制作设施中的所述光罩。

主权项

一种提供用于检验晶片制作设施中的光罩的设计数据信息的方法，所述方法包括：提供光罩设计数据，所述光罩设计数据规定形成于使用所述光罩的所述晶片上的多个可印刷特征及不形成于使用此光罩的所述晶片上的多个不可印刷特征，其中所述光罩设计数据可用于制作所述光罩；从所述光罩设计数据产生减小的设计数据库，其中所述减小的设计数据库包含所述光罩的所述不可印刷特征的描述或图谱、所述光罩的多个单元间区域的描述或图谱及从所述光罩设计数据光栅化的灰度级光罩图像；及将所述减小的设计数据库以及所述光罩传送到制作设施，使得所述减小的设计数据库可用于周期性地检验所述制作设施中的所述光罩。