发明名称 发光二极管芯片制造方法
摘要 一种发光二极管芯片制造方法,包括步骤:1)提供硅基板,该硅基板具有通过多个沟槽分隔开的多个磊晶层,每一沟槽底部具有阻隔层;2)在沟槽内填充绝缘材料;3)在磊晶层及绝缘材料顶面形成连续的金属结构;4)去除硅基板、阻隔层及绝缘材料;5)在各磊晶层底面及金属结构顶面形成相应的电极;6)沿沟槽切割金属结构而形成多个独立的发光二极管芯片。该制造方法可提升发光二极管芯片的光输出效率,且可加快发光二极管芯片的散热。
申请公布号 CN102456778B 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201010519376.5 申请日期 2010.10.26
申请人 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 发明人 黄世晟;凃博闵;杨顺贵;黄嘉宏
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I;H01L33/62(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 代理人 孔丽霞
主权项 一种发光二极管芯片制造方法,包括步骤:1)提供硅基板,该硅基板具有通过多个沟槽分隔开的多个磊晶层,每一沟槽底部具有用于阻挡磊晶层生长的阻隔层;2)在沟槽内填充绝缘材料;3)在磊晶层及绝缘材料顶面形成连续的金属结构;4)去除硅基板、阻隔层及绝缘材料;5)在各磊晶层底面及金属结构顶面形成相应的电极;6)沿沟槽切割金属结构而形成多个独立的发光二极管芯片。
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