微光刻投影光学系统、工具及其制造方法

摘要

一种微光刻投影光学系统(1100)包括多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160)，这些元件设置为将具有波长λ的辐射从物平面(103)中的物场成像到像平面(102)中的像场。该多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160)具有位于距物平面大于2.8m的入瞳。穿过该光学系统的辐射路径由具有相对于物平面的法线成3°或更大夹角的主光线表征。这尤其适宜使用相移掩模作为所要成像的物体，尤其适用于EUV波长。

主权项

一种微光刻投影光学系统：‑包括多个光学元件，该光学元件设立为将来自物平面中的物场的波长为入的辐射成像到像平面中的像场，‑该光学系统具有位于距物平面大于2.8m的入瞳，‑其中该光学系统的辐射路径具有与物平面处的法线成3°或更大夹角的主光线，该光学系统在物平面处为远心的，该多个元件包括两个元件，所述两个元件是位于辐射路径中的具有非旋转对称表面的反射元件。