发明名称 溅镀设备;SPUTTERING APPARATUS
摘要 用于旋转靶阴极的磁控组件包括:刚性支撑结构;磁棒结构,其可移动的附接到刚性支撑结构;以及至少一致动构件,其耦合于刚性支撑结构,并且建构成改变磁棒结构与可旋转的靶圆柱之表面的距离。磁控组件也包括位置指示构件,其操作成测量磁棒结构相对于可旋转的靶圆柱之表面的位置。通讯装置系建构成接收来自磁控组件的外面的命令讯号,并且传送资讯讯号到磁控组件的外面。
申请公布号 TW201441402 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW103106441 申请日期 2014.02.26
申请人 溅镀零件公司 发明人 科络里 丹尼尔 西奥多;摩斯 派克 罗伦斯;爵曼 约翰 罗勃
分类号 C23C14/35(2006.01);C23C14/54(2006.01) 主分类号 C23C14/35(2006.01)
代理机构 代理人 <name>阎启泰</name><name>林景郁</name>
主权项
地址 美国