发明名称 |
溅镀设备;SPUTTERING APPARATUS |
摘要 |
用于旋转靶阴极的磁控组件包括:刚性支撑结构;磁棒结构,其可移动的附接到刚性支撑结构;以及至少一致动构件,其耦合于刚性支撑结构,并且建构成改变磁棒结构与可旋转的靶圆柱之表面的距离。磁控组件也包括位置指示构件,其操作成测量磁棒结构相对于可旋转的靶圆柱之表面的位置。通讯装置系建构成接收来自磁控组件的外面的命令讯号,并且传送资讯讯号到磁控组件的外面。 |
申请公布号 |
TW201441402 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
申请号 |
TW103106441 |
申请日期 |
2014.02.26 |
申请人 |
溅镀零件公司 |
发明人 |
科络里 丹尼尔 西奥多;摩斯 派克 罗伦斯;爵曼 约翰 罗勃 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01);C23C14/54(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>阎启泰</name><name>林景郁</name> |
主权项 |
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地址 |
美国 |