| 发明名称 |
纯化低分子量氢矽烷之方法 |
| 摘要 |
本发明有关纯化低分子量氢矽烷溶液之方法，其中包含a)至少一种低分子量氢矽烷、b)至少一种溶剂及c)至少一种选自具有至少20个矽原子之化合物及/或选自均相触媒系统的杂质之待纯化溶液系以至少一个使用渗透膜之膜分离步骤进行交叉流动膜处理。 |
| 申请公布号 |
TWI458681 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW098136964 |
申请日期 |
2009.10.30 |
| 申请人 |
赢创德固赛有限责任公司 德国 |
发明人 |
布劳奇 尼可;鲍加顿 高兹;史达克诺尔 盖得;欧拿尔 尤赛尔;特罗查 马丁 |
| 分类号 |
C01B33/04;B01D61/00 |
主分类号 |
C01B33/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
一种纯化低分子量氢矽烷溶液之方法，其中待纯化溶液包含：a.至少一种低分子量氢矽烷，b.至少一种溶剂，及c.至少一种杂质，其系选自具有至少20个矽原子之化合物及/或选自均相触媒系统，该待纯化溶液系以至少一个使用渗透膜之膜分离步骤进行交叉流动膜处理；其中该交叉流动膜处理之至少一个膜分离步骤系在≧0.5MPa，较佳系0.5至10MPa之透膜压差下；在10至120℃之温度下；且较佳系在0.1至15m/s之膜溢流速度下进行。 |
| 地址 |
德国 |
