发明名称 CIGS膜之制法及使用其之CIGS太阳电池之制法
摘要 本发明为提供一种可以低成本且再现性良好地制造具优异转换效率的CIGS膜之CIGS膜之制法及含其之CIGS太阳电池之制法,而具有下述步骤:积层步骤,系将含铟、镓、硒之层(A)及含铜与硒之层(B)以固相状态并在大于250℃且于400℃以下之加热状态下依序积层于基板上;及,加热步骤,系将积层有上述层(A)及层(B)之积层体再加热,使上述层(B)之铜与硒之化合物溶融成液相状态,藉此使上述层(B)中的铜扩散至上述层(A)中,使结晶成长而制得CIGS膜。
申请公布号 TW201442256 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW103103782 申请日期 2014.02.05
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 西井洸人;渡边太一;寺地诚喜;河村和典;峯元高志;柴塔那 贾卡潘;村田雅
分类号 H01L31/0216(2014.01);H01L31/042(2014.01) 主分类号 H01L31/0216(2014.01)
代理机构 代理人 <name>恽轶群</name><name>陈文郎</name>
主权项
地址 日本