| 摘要 |
本发明提供一种方法,该方法包括使用主要电子束照射样品之表面,该表面系由多种类型之材料制成。使用多个侦测器侦测自该经照射样品发射出之经发射电子,以便产生个别侦测器输出,该多个侦测器相对于该样品安置在个别不同位置处。藉由对于每一材料类型识别由该材料类型制成的该表面上之一或更多个水平区域及基于在经识别水平区域处之侦测器输出中之至少一者计算材料类型之校准因数,计算校准因数以补偿在该等类型之材料之间的经发射电子产率之变化。将校准因数应用于侦测器输出。基于应用校准因数之侦测器输出计算该表面之三维地形模型。 |
