| 发明名称 |
具有保护层之乾蚀刻外盖结构 |
| 摘要 |
本创作系为一种具有保护层之乾蚀刻外盖结构，其包括：一外盖本体；以及一保护层。外盖本体并具有复数个蚀刻孔，于乾蚀刻制程中，外盖本体用以遮盖复数个乾蚀刻标的物，并自每一蚀刻孔露出一乾蚀刻标的物。藉由本创作之实施，可以避免乾蚀刻制程中使用的蚀刻药剂与外盖本体之材质产生化学反应而降低了蚀刻效率。 |
| 申请公布号 |
TWM489365 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW103211281 |
申请日期 |
2014.06.25 |
| 申请人 |
聚昌科技股份有限公司 新竹县湖口乡光复南路16号 |
发明人 |
林士青;黄綉智;陈宜杰;罗世欣 |
| 分类号 |
H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
傅尹坤 台北市大安区复兴南路1段380号12楼之1 |
| 主权项 |
一种具有保护层之乾蚀刻外盖结构，其包括：一外盖本体，其具有复数个蚀刻孔，该外盖本体系用以遮盖复数个乾蚀刻标的物，并自每一该蚀刻孔露出一该乾蚀刻标的物；以及一保护层，形成于该外盖本体之表面及每一该蚀刻孔之孔壁。 |
| 地址 |
新竹县湖口乡光复南路16号 |
