量测方法、量测装置、微影装置及元件制造方法

摘要

一种装置(AS)，其量测一微影基板(W)上之标记(202)之位置。一量测光学系统包含用于用一辐射光点(206)来照明该标记之照明子系统(504)，及用于侦测藉由该标记绕射之辐射之一侦测子系统(580)。该基板及该量测光学系统以一第一速度(vW)相对于彼此而移动，以便扫描该标记，同时以一第二速度(vSPOT)相对于该量测光学系统之参考框架(RF)来同步地移动该辐射光点。该光点以一第三速度(vEFF)扫描该标记，该第三速度低于该第一速度以允许获取针对准确位置量测之更多时间。在一实施例中，一接物镜(524)相对于该参考框架保持固定，而一移动光学器件(562)赋予该辐射光点相对于该参考框架之该移动。

主权项

一种量测一光学装置中之一基板上之一标记之一位置的方法，该方法包含：将一标记提供于该基板上；提供一量测光学系统，该量测光学系统包含用于用一辐射光点来照明该标记之一照明子系统，及用于侦测藉由该标记绕射之辐射之一侦测子系统；在一扫描操作中，使该基板及该量测光学系统以一第一速度相对于彼此而移动，以便用该辐射光点来扫描该标记，同时侦测及处理表示该绕射辐射之信号以演算该标记相对于该量测光学系统之一参考框架之一位置；与该扫描操作同步地，以一第二速度相对于该量测光学系统之该参考框架来移动该辐射光点，该第一速度与该第二速度相关，使得该光点在该等信号被侦测时以低于该第一速度之一第三速度扫描该标记。