极限紫外线微影遮罩坯料制造系统及用于该制造系统之操作方法;EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MASK BLANK MANUFACTURING SYSTEM AND METHOD OF OPERATION THEREFOR

摘要

一种处理系统,该处理系统包括:真空腔室;复数个处理系统,该等复数个处理系统附接于真空腔室之周围;以及晶圆传送系统,该晶圆传送系统位于该真空腔室中,用于在复数个处理系统之间移动晶圆,而不从真空中离开。一种用于制造极紫外线坯料之物理气相沉积系统,该系统包含:靶材,该靶材包含钼、钼合金或上述两者之组合。