发明名称 保护膜形成用膜
摘要 [课题]提供一种与晶片的接着强度优异之保护膜形成用膜,在将暂时固定于支撑体之该保护膜形成用膜硬化后,能够容易地从支撑体剥离。[解决手段]提供一种保护膜形成用膜,其系具有第1表面及第2表面之硬化性保护膜形成用膜,在硬化后之第1表面对矽晶圆之接着力,系比在硬化后之第2表面对矽晶圆之接着力更高。
申请公布号 TW201442113 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW102146347 申请日期 2013.12.16
申请人 琳得科股份有限公司 发明人 佐伯尙哉;山本大辅;高野健
分类号 H01L21/31(2006.01);H01L21/56(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 代理人 <name>洪澄文</name>
主权项
地址 日本