发明名称 液浸构件、液浸曝光装置、液浸曝光方法、以及元件制造方法
摘要 液体回收系统,系用于液浸曝光装置。液体回收系统,具备:第1开口部;与第1开口部对向之物体上之液体能透过第1开口部流入的空隙部;透过多孔构件吸引流入空隙部之液体至少一部分的液体回收部;以及异于第1开口部的第2开口部;空隙部系透过该第2开口部而开放至大气。
申请公布号 TW201441772 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW103120153 申请日期 2008.01.23
申请人 尼康股份有限公司 发明人 长坂博之
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 <name>桂齐恒</name><name>阎启泰</name>
主权项
地址 日本