发明名称 曝光机
摘要 一种曝光机,其机箱具有控制器,可动发光机台具有发光源及移动装置,第一感光基板升降机台位于二底片固定机台之间,二感光基板搬移机台分别于感光基板接收机台及第一感光基板升降机台之间搬移感光基板,及于第一感光基板升降机台及感光基板退出机台之间搬移感光基板,发光源设于移动装置并藉由反射镜反射光线至第一感光基板升降机台上的感光基板。藉此,本创作之曝光机可自动对感光基板的正面与反面曝光且可连续放置感光基板以进行曝光。
申请公布号 TWM489308 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW103209444 申请日期 2014.05.29
申请人 敍丰企业股份有限公司 桃园县八德市茄苳路760巷16号 发明人 周坤麟;何 立克
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 赖安国 台北市信义区东兴路37号9楼;王立成 台北市信义区东兴路37号9楼
主权项 一种曝光机,其包含:一机箱,其具有一控制器;一感光基板接收机台,其设置于该机箱且电连接该控制器;一感光基板退出机台,其设置于该机箱且电连接该控制器;二底片固定机台,其设置于该机箱内;一第一感光基板升降机台,其设置于该机箱内且电连接该控制器,该第一感光基板升降机台位于该等底片固定机台之间;二感光基板搬移机台,其设置于该机箱内且电连接该控制器,该等感光基板搬移机台分别用以于该感光基板接收机台及该第一感光基板升降机台之间搬移一感光基板,及于该第一感光基板升降机台及该感光基板退出机台之间搬移一感光基板;二反射镜,其设置于该机箱内且分别位于该等底片固定机台的二侧;以及一可动发光机台,其设置于该机箱内且电连接该控制器,该可动发光机台具有至少一发光源及一移动装置,该发光源设置于该移动装置并用以藉由该反射镜反射光线至该第一感光基板升降机台上的感光基板。
地址 桃园县八德市茄苳路760巷16号