半导体装置及其制造方法;SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

摘要

本发明系一种半导体装置及其制造方法,其中,具有:半导体基板,和依序具有含有不纯物于第1范围之半导体基板上之第2矽膜与导体膜之第1配线,和依序具有含有不纯物于第2范围之半导体基板上之第1矽膜与蚀刻停止膜与含有不纯物之第2矽膜与导体膜之第2配线者。