| 发明名称 |
利用曝光之选择性沉积;SELECTIVE DEPOSITION BY LIGHT EXPOSURE |
| 摘要 |
基板处理腔室包含腔壁,腔壁围住处理区,处理区具有排气口、基板支撑件,用以支撑处理区中的基板、气体分配器,用以提供沉积气体至处理区、能用光实质照射整个基板表面的固态光源、及气体增强器,用以激发沉积气体。 |
| 申请公布号 |
TW201442115 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW103106545 |
申请日期 |
2014.02.26 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
奈纳尼阿尼许;强生乔瑟夫;平尔顺;班德亚当;亚伯拉罕马修 |
| 分类号 |
H01L21/31(2006.01);H01L21/768(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
<name>蔡坤财</name><name>李世章</name> |
| 主权项 |
|
| 地址 |
美国 |
