用来清洗基板处理装置的清洗治具及清洗方法、与基板处理系统;CLEANING JIG AND CLEANING METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

摘要

本发明之目的在于,即使在不具有从基板保持部上方供给清洗液之手段的基板处理装置中,亦可对于位置高于基板保持部所保持之制品基板底面的基板处理装置的构成构件进行清洗。为达成上述之目的,使用第1清洗治具(300)清洗基板处理装置的构成构件,该第1清洗治具(300)具备于部具有开口(304)的圆板状下侧构件(301),及在与下侧构件连结的同时,与下侧构件之间形成间隙的圆板状上侧构件(302)。以基板保持部保持第1清洗治具的下侧构件,并使第1清洗治具旋转。从第1清洗治具的下方,朝向旋转的第1清洗治具吐出清洗液,使当该清洗液通过下侧构件的开口,到达上侧构件的底面。清洗液因为离心力而通过上侧构件与下侧构件之间的间隙,进而流出至清洗构件的外侧;藉由该流出之清洗液,来清洗基板处理装置的构成构件。