| 摘要 |
本发明之实施例提供用于在基板上沉积层之方法及设备。在一个实施例中,该方法包括将安置在处理腔室内之基板表面曝露于流体前驱物;将产生自辐射源之电磁辐射引导至光扫描单元以使得电磁辐射在基板表面上经偏转及扫描,材料层将形成在该基板表面上;及用电磁辐射启动沉积制程,该电磁辐射之波长经选择以用于流体前驱物之光解解离以将材料层沉积至基板表面上。辐射源可包括雷射源、高亮度发光二极体(light emitting diode;LED)源,或热源。在一个实例中,辐射源系光纤雷射,该光纤雷射产生紫外线(ultraviolet;UV)波长范围内之输出。 |
