发明名称 偏振元件及其制作方法
摘要 一种偏振元件之制作方法,包括下列步骤:提供一支撑板;涂布一光阻于该支撑板上;提供一奈米碳管膜于该光阻上,部份之该奈米碳管膜浸润于该光阻中;沈积复数个金属粒子或复数个半金属粒子于该奈米碳管膜与该光阻上;去除该光阻;及黏接该附着有该等金属粒子或半金属粒子之该奈米碳管膜于一基底形成该偏振元件。
申请公布号 TWI459055 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW098143611 申请日期 2009.12.18
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 骆世平
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人
主权项 一种偏振元件之制作方法,包括下列步骤:提供一支撑板;涂布一光阻于该支撑板上;提供一奈米碳管膜于该光阻上,部份之该奈米碳管膜浸润于该光阻中,该奈米碳管膜包括复数个奈米碳管,该等奈米碳管之端部系沿一方向相互连接,该等奈米碳管排列形成复数个相互平行的奈米碳管丝,相邻之该等奈米碳管丝之间系由复数个奈米碳管连接;沈积复数个金属粒子或复数个半金属粒子于该奈米碳管膜与该光阻上;去除该光阻:去除连接相邻之该等奈米碳管丝之该等奈米碳管;以及黏接该附着有该等金属粒子或该等半金属粒子之该奈米碳管膜于一基底并去除该支撑板形成该偏振元件。
地址 新北市土城区自由街2号